مرشح شموع مقاوم للأحماض لإنتاج ثاني أكسيد التيتانيوم - مبطّن بـ PTFE/المطاط
تم تصميم فلتر الشمعة المُحمَّل مسبقًا الآلي المتخصص خصيصًا لهذا البيئة الكيميائية القاسية. فهو يجمع بين هيكل مقاوم للتآكل (بطبقة من PTFE أو المطاط) وتشغيل آلي ذكي بالكامل.
- نظرة عامة
- المنتجات الموصى بها
- التحكم في فرق الضغط
- التحكم القائم على الوقت
- التحكم اليدوي
التحدي:
حلول كبريتات التيتيوم المُسبّبة للتآكل تحتوي على جسيمات دقيقة، ما يشكّل تحديًّا كبيرًا في عملية الترشيح أثناء إنتاج ثاني أكسيد التيتانيوم، وغالبًا ما يؤدي إلى عطل المعدّات وعدم استقرار العملية.
حلنا:
مرشحنا الشمعي الأوتوتوماتيكي المتخصّص المُغطّى مسبقًا مُهندَسٌ خصّيصًا لهذا البيئة الكيميائية القاسية. ويجمع بين بناء مقاوم للتآكل (مبطّن بالبوليتيترافلوروإيثيلين أو المطاط) وتشغيل ذكي أوتوماتيكي بالكامل. وهذا يضمن فصلًا مستمرًّا ودقيقًا جدًّا بين الصلب والسائل، ما ينعكس مباشرةً في زيادة إنتاجيّة المنتج، ووضوحٍ أعلى، واستقرارٍ أكبر في الإنتاج لمصنعك.
المزايا الرئيسية
١. مقاومة تآكل فائقة للخدمة في البيئات الحمضية
• وعاء مقاوم للتآكل: اختر بين بطانة مطاطية اقتصادية أو بطانة بولي تيترا فلورو إيثيلين (PTFE) متفوقة على الفولاذ الكربوني لحماية مثلى ضد الأحماض القوية.
• مكونات داخلية مقاومة: تُصنع شموع الفلاتر وأنابيب التعليق الأفقية من مادة FRPP أو PVDF، مما يضمن سلامة طويلة الأمد في البيئات الكيميائية العدائية.
• وسط ترشيح مستقر: أقمشة الترشيح المصنوعة من البولي بروبيلين (PP) عالية الأداء تضمن أداءً ترشيحياً ثابتاً ومتانةً تحت الظروف الحمضية.
٢. ترشيح عالي الكفاءة ومنخفض التكلفة
• ترشيح عميق مع طبقة أولية: يستخدم الطين الدياتومي أو السليلوز لتكوين طبقة أولية مستقرة تحجز الجسيمات دون الميكرونية بكفاءة.
• أوقات دورة ممتدة: السعة العالية لاحتسان الشوائب تقلل من تكرار التجديد، ما يخفض التكاليف التشغيلية.
• إفراغ كامل للكعكة المرشحة: يضمن النفخ العكسي بالغاز تجديداً نظيفاً، ما يعيد السعة الكاملة للتدفق.
٣. تشغيل ذكي وأتمتة كاملة
• التحكم بدون استخدام اليدين: يُفعّل نظام PLC/DCS المتكامل بالكامل دورة التشغيل الكاملة (الترشيح، وتفريغ الكعكة، والغسل).
• المراقبة والدعم عن بُعد: يتيح التشخيص والتصحيح عن بُعد لتقليل أوقات التوقف غير المخطط لها وتقديم الدعم السريع.
المواصفات الفنية
المعلَّمة |
المواصفات |
الضغط التصميمي |
٠٫٥ إلى ١٫٦ ميجا باسكال. ج |
مادة الإناء |
فولاذ كربوني مع بطانات مطاطية أو من مادة PTFE |
مادة عناصر الترشيح |
شمعات الترشيح متوفرة من مادة FRPP أو PVDF أقمشة الترشيح متوفرة من مادة PP أو أي متطلبات أخرى محددة |
طريقة التصفية |
ترشيح الطبقة الأولية (ترشيح بالعمق) |
نسبة المحتوى الصلب عند المخرج |
≤30 ppm |
≤10 ppm | |
طريقة التجديد |
نفخ الغاز عكسياً، والتنظيف الخارجي، والغسل العكسي |
مُحفِّز التفريغ |
الضغط التفاضلي أو الزمن |
وضع التشغيل |
قابلة للتبديل بين الوضع الآلي والشبه آلي واليدوي |
الميزات |
قابل للتخصيص وفقًا لمعدل التدفق ومتطلبات التطبيق المحددة |
تصميم الحاوية الوحدوي لتسهيل الصيانة واستبدال المكونات | |
خيارات مرنة في التوريد، تتراوح بين توريد وعاء ترشيح واحد (وحدة فردية) إلى توريد كامل جاهز للتشغيل |
نظرة عامة على هيكل مرشحات الشمعة
مبدأ العمل
يتكون نظام الترشيح عادةً من مرشحات وصهريج الترشيح المسبق ومضخة الترشيح المسبق وصهريج التغذية ومضخة القياس والأجهزة والصمامات وأنابيب النظام ونظام التحكم.
قبل بدء عملية الترشيح، يتم تحضير محلول الطبقة الأولية المحتوي على تراب ديوميتي أو مادة بيرلايت المساعدة في صهريج الطبقة الأولية، ثم يُضخ هذا المحلول إلى داخل المرشح لدورة تدوير واحدة لإنشاء طبقة أولية متجانسة وكثيفة على عناصر الترشيح.
وبعد ذلك، يدخل السائل غير المُرشَّح إلى الحاوية. وتتم إزالة الشوائب بكفاءة بواسطة الطبقة الأولية، بينما يخرج السائل المُرشَّح الصافي. وفي الوقت نفسه، تُفعَّل مضخة القياس لإدخال مادة الترشيح المساعدة من صهريج التغذية إلى تيار التغذية بمعدل خاضع للتحكم والقياس.
عندما يصل الفرق في الضغط عبر الفلتر إلى الحد المُحدَّد، أو عند انتهاء فترة الترشيح المُبرمجة مسبقًا، يلزم تجديد عناصر الفلتر. أولاً، يُغلق مدخل الفلتر، ويُحقن غاز مضغوط لرفع ضغط الوعاء ودفع السائل المتبقي خارجه. ثم يُحقن غاز عالي الضغط عكسياً عبر منفذ الترشيح، مُحدثاً صدمة ضغط من داخل العنصر نحو الخارج، مما يؤدي فوراً إلى إزاحة كعكة الترشيح المتراكمة. وبعد ذلك، تُفرَّغ هذه الكعكة عبر منفذ التفريغ السفلي.
وبعد إزالة الكعكة بالكامل، يمكن غسل عناصر الفلتر غسلاً كاملاً باستخدام مواد التنظيف مثل الماء الساخن لإكمال عملية التجديد.
التحكم في النظام:
يتم التحكم الكامل في نظام الترشيح آليًّا، ويمكن تجهيزه بلوحة تحكم محلية تعتمد على وحدة التحكم المنطقية القابلة للبرمجة (PLC)، أو دمجه مباشرةً في نظام التحكم الموزَّع (DCS) الخاص بالعميل للتحكم المركزي.
تتوفر ثلاث طرائق تحكّم:
المكونات الأساسية

الجزء المتوسط من الغلاف الخاص بـ HC (تصميم وحداتي)

أنابيب أفقية معلَّقة مصنوعة من FRPP

عناصر فلتر الشمع
المخططات الانسيابية للعمليات والتجهيزات (P&ID):

التطبيقات النموذجية في صناعة ثاني أكسيد التيتانيوم
توفّر مرشحات الشموع الآلية بالكامل لدينا أداءً استثنائيًّا في مرحلتين حاسمتين من إنتاج ثاني أكسيد التيتانيوم:
أولاً: الترشيح الساخن لمعلق هضم الحمض
بعد هضم الليمونيت بحمض الكبريتيك، وترسيب السائل التيتانيومي الأسود الناتج، يتعامل المرشح مباشرةً مع المعلق الحمضي الساخن. ويُزوَّد هذا المرشح بأغشية ترشيح مقاومة للأحماض ودرجات الحرارة العالية، ويعمل باستخدام طبقة مساعدة للترشيح مُطبَّقة مسبقًا، ما يسمح بإزالة جزيئات الخام غير المحلَّلة ومركبات السيليكات والشوائب غير القابلة للذوبان بكفاءةٍ عالية. وبذلك، لا يمنع هذا الترشيح التآكل الميكانيكي لطرابيش الطرد المركزي وأقمشة الترشيح اللاحقة فحسب، بل ويخلّص أيضًا من الشوائب التي قد تُضعف بنية بلورات ثاني أكسيد التيتانيوم ودرجة بياضها أثناء مرحلة التحلل المائي. كما يضمن إفراغ كعكة الترشيح تلقائيًّا عبر نبضات عكسية مستمرة التشغيل دون انقطاع أو أعطال.
ثانياً: الترشيح الدقيق الخاضع للتحكم بعد تبلور كبريتات الحديدوز
بعد التبريد بالفراغ والفصل الأولي لبلورات كبريتات الحديديك، لا يزال السائل التيتانيومي يحتوي على بلورات دقيقة ومواد صلبة معلقة. ويقوم مرشح الشمعة الخاص بنا، المزود بطبقة مساعدة مسبقة التغطية، بإجراء ترشيح دقيق جدًّا لإزالة المواد الصلبة إلى مستوى منخفض للغاية. وتضمن هذه الخطوة أن يدخل سائل التيتانيوم عالي النقاء فقط مرحلة التحلل المائي، ما يحسّن بشكل كبير نقاء ثاني أكسيد التيتانيوم والعائد الكلي.
وبفضل هيكله المتين وتجديده الآلي وكفاءته الفائقة في الترشيح، يُعَدُّ نظام مرشح الشمعة الخاص بنا الحلّ الموثوق به لفصل المواد الصلبة عن السوائل في مراحل حرجة متعددة ضمن سلسلة إنتاج ثاني أكسيد التيتانيوم.
بعض المنتجات المستخدمة في المجالات التطبيقيّة



